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绝对式光栅尺母尺刻划曝光系统
数字微镜器件 曝光头 计量光栅
2013/11/12
提出了基于数字微镜器件（DMD）的双曝光头总体结构，该结构可同时刻划母尺的周期和非周期两个光栅码道。单曝光头包含曝光光源、调焦光源、DMD和投影镜头四部分，曝光光源由激光器、准直镜组、二维微透镜阵列和场镜组成。本文利用光学软件TracePro设计该光源，实现了能量的平顶分布，在14 mm×10 mm的照明面上均匀性达到95%以上。利用光学软件Zemax设计了工作在双波段（曝光光源0.403~0.4...
机载新颖连续变焦中波红外光学系统设计
红外连续变焦 三组元变焦 三次成像
2012/10/29
针对制冷式640×512元凝视焦平面阵列探测器，设计了结构紧凑的高性能机械补偿30倍连续变焦光学系统.该系统采用新颖的三组元变倍形式和三次成像方法设计.工作波段为3.7 ~ 4.8 μm，F/# =4，变焦范围750 ~25 mm.首先利用光学设计软件给出了系统的光学外形结构图; 然后，进行了像质评价分析，变焦曲线分析，温度环境适应性分析和冷反射分析; 最后，介绍了该系统应用微扫描成像技术提高分辨...